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日立高新超高分辨率場發(fā)射掃描電子顯微鏡

產(chǎn)品時(shí)間:2024-06-02

訪問次數(shù):1650

簡要描述:

日立高新超高分辨率場發(fā)射掃描電子顯微鏡
與現(xiàn)有機(jī)型相比分辨率提高了20%左右
  (Regulus8240/8230/8220: 0.9 nm/1 kV、Regulus8100: 1.1 nm/1 kV)
  采用污染小、高真空樣品倉
  運(yùn)用能量過濾器(選配),可觀察到多種成分對比度*2

日立高新超高分辨率場發(fā)射掃描電子顯微鏡SU9000

日本日立HITACHI超高分辨場發(fā)射掃描電子顯微鏡Regulus系列 的詳細(xì)介紹

  沿用"SU8200系列"的冷場發(fā)射電子槍*2

  采用電子束在Flashing后出現(xiàn)的高亮度穩(wěn)定區(qū)域作為穩(wěn)定觀察的區(qū)間,使得低加速電壓條件下兼?zhèn)涓叻直嬗^察和分析的佳性能

  與現(xiàn)有機(jī)型相比分辨率提高了20%左右

  (Regulus8240/8230/8220: 0.9 nm/1 kV、Regulus8100: 1.1 nm/1 kV)

  采用污染小、高真空樣品倉

  運(yùn)用能量過濾器(選配),可觀察到多種成分對比度*2

  極低著陸電壓下高分辨觀察日立高新超高分辨率場發(fā)射掃描電子顯微鏡SU9000是專門為電子束敏感樣品和需300萬倍穩(wěn)定觀察的半導(dǎo)體器件,高分辨成像所設(shè)計(jì)。

  • 新的電子槍和電子光學(xué)設(shè)計(jì)提高了低加速電壓性能。

    • 0.4nm / 30kV(SE)

    • 1.2nm / 1kV(SE)

    • 0.34nm / 30kV(STEM)

  • 用改良的高真空性能和的電子束穩(wěn)定性來實(shí)現(xiàn)高效率截面觀察。

  • 采用設(shè)計(jì)的Super E x B能量過濾技術(shù),高效,靈活地收集SE / BSE/ STEM信號。

     

     

日立科學(xué)儀器()有限公司為您提供日立高新超高分辨率場發(fā)射掃描電子顯微鏡SU9000的參數(shù)、價(jià)格、型號、原理等信息,日立高新超高分辨率場發(fā)射掃描電子顯微鏡SU9000產(chǎn)地為日本、品牌為日立,型號為SU9000,價(jià)格為面議,更多相關(guān)信息可,公司客服電話7*24小時(shí)為您服務(wù)


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